ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費(fèi)、保護(hù)環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。
ITO靶材回收流程
1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。
2. 表面處理/預(yù)處理 ：清洗表面雜質(zhì)、油污、物理去除殘留膜層
3. 靶材分離：機(jī)械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層
4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素
5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細(xì)化學(xué)手段，獲得高純度的銦、錫化合物
6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途
主要回收業(yè)務(wù)：
銦類：銦錠、銦絲、精銦、銦線、銦粒、銦型材、銦片、銦板、銦帶、銦條、銦排、純銦、工業(yè)廢、銦、銦管、氧化銦、電解銦、高純銦、ITO靶材、ITO靶粉、銦錫合金、銦錫氧化物。
在分離銦和其他金屬和材料時(shí)，可以采用幾種方法，包括選擇性溶解、溶劑萃取、離子交換和沉淀。選擇性溶解使用化學(xué)浸出劑選擇性地溶解銦，而保持其他金屬和材料不變。溶劑萃取使用有機(jī)溶劑選擇性地提取銦。離子交換則通過樹脂吸附銦離子，同時(shí)留下其他離子。沉淀法使用化學(xué)試劑使銦從溶液中沉淀出來，而將其他金屬和材料留在溶液中。