TO靶材回收流程 ITO靶材的回收流程通常包括以下幾個步驟： 1. 收集與分類：將廢舊ITO靶材進行收集，并根據其種類、純度等進行分類。 2. 破碎與研磨：將分類后的靶材進行破碎和研磨，使其變成粉末狀，便于后續處理。 3. 化學分離：采用化學方法將粉末中的銦、錫等元素進行有效分離。 4. 提純與精煉：對分離出的銦、錫等元素進行提純和精煉，得到高純度的金屬產品。 5. 再加工：將提純后的金屬產品加工成新的靶材或其他產品，實現資源的循環利用。
ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設備的理想材料。其晶體結構穩定，電導率高，確保了設備的運行。
銦回收的重要性 銦在ITO靶材、半導體、合金等領域的應用表明其在電子和光伏產業中的關鍵作用，推動了銦回收的必要性。銦，這一關鍵元素在ITO廢料回收中扮演著至關重要的角色。通過回收這些廢料，可以顯著減少原礦開采成本，高達50%。同時，隨著半導體和光伏領域的迅猛發展，對高純銦的需求也呈現出剛性增長，進一步凸顯了銦回收的緊迫性和重要性。
主流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網過濾實現銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網（30-40目）截留固態雜質鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。