ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過濺射技術將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產高質量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見。
ITO靶材作為重要的透明導電材料，在電子產業中扮演著重要角色。為了實現資源的可持續利用，銦元素的回收變得尤為重要。目前，化學、物理和電化學回收法都在不同程度上取得了一定的成果，但仍需要進一步的研究和改進。隨著技術的不斷發展，我們有望找到更加、環保的ITO靶材回收方法，為電子產業的可持續發展做出貢獻。
貴金屬，涵蓋金、銀以及鉑族金屬（包括釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑）等八種關鍵金屬元素，因其獨特的美學價值和的化學穩定性而備受推崇。在標準條件下，這些金屬展現出的抗腐蝕性和抗氧化性，同時兼具優異的電學性能、導電性以及高溫熱電性能。此外，它們還展現出高催化活性和強配位能力，使得貴金屬在工業領域中有著廣泛且不可或缺的應用，因而被譽為現代工業的“維他命”。
在檢測方法上，貴金屬檢測涵蓋了無損檢測與化學法等多種手段。無損檢測方法包括X射線熒光光譜法、X探針法以及針對黃金飾品的無損檢測石英標樣-密度法等，這些方法能夠在不損害樣品的前提下獲取準確信息。而化學法則以火法試金法和原子吸收光譜法為代表，通過化學反應來測定貴金屬的含量。同時，還有一些簡便的方法如試金石法、銀試劑法等，操作簡單易懂，適用于現場快速檢測。
