KT—Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓，電流反饋，樣品臺旋轉，樣品高度調節及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
控制方式
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1000W
輸出電壓電流
電壓≤1000V 電流≤1A
真空
機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空
≤30Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺
可旋轉φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺轉速
8轉/分鐘
樣品濺射源調節距離
40-105mm
真空測量
皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預留真空接口
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口