半導體廢氣去除凈化方案

半導體廢氣去除凈化方案

半導體工業在加工的過程中會使用到光刻膠、蝕刻液、清洗劑、顯影劑等溶劑，而這些溶劑是含有大量的有機物成分，排放出來的廢氣含有HCl、氨、HF等危險污染物，而主要處理的是具有揮發性的VOCs。VOCs污染物為有機化合物，在濃度較高且有火花或靜電情況下，極易發生閃爆現象。半導體在制造過程中一般的污染源包括顆粒污染物、金屬離子和化學物質等，而這些都是屬于有害的污染物。

半導體廢氣處理方法根據工業廢氣成分進行廢氣處理設備的選擇：

噴淋塔：

噴淋塔可分為酸液噴淋塔、堿液噴淋塔、循環水噴淋塔，因在進行廢氣處理的過程中會涉及到酸堿等不同的污染物質，設備會根據廢氣的性質、采用的處理工藝將設備的材料劃分為東莞玻璃鋼噴淋塔、東莞pp噴淋塔、東莞不銹鋼噴淋塔。

噴淋塔對各種腐蝕性氣體凈化處理效果明顯，能有效去除氯化氫氣體(HCl)、氟化氫氣體(HF)、氨氣(NH3)、硫酸霧(H2SO4)、鉻酸霧(CrO3)、氰氫酸氣體(HCN)、堿蒸氣(NaOH)、福爾馬林(HCHO)等水溶性氣體。東莞噴淋塔廢氣凈化效率高、操作管理簡單、使用壽命長，凈化處理后的酸堿廢氣排放達到國家排放標準。