產品用途
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統配置；
1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（單獨購買）
產品特性;
電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
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系統名稱
集成型PECVD系統
1200℃小型PECVD系統
系統型號
PECVD-12IH-500A
PECVD-12IH-4Z/G
控制方式
液晶屏微PLC控制系統
手動
溫度
1200℃
加熱區長度
200mm
恒溫區長度
100mm
溫區
單溫區
石英管管徑
Φ60mm
Φ50mm
額定功率
1.2Kw
2Kw
額定電壓
220V
滑動方式及距離
自動滑動;200mm
手動滑動;200mm
溫度控制