通過上面的介紹，我們在施工硬化地坪時，非常有必要用地坪拋光液進行拋光，因為地坪拋光液不單單只是提高地坪的光澤度，還能提高地面抗滲、防塵、抗污保潔的功能，讓地坪更有質感的同時，也能更好的對地面進行養護。可以說硬化地坪使用拋光液進行拋光并非畫蛇添足而是錦上添花，讓硬化地坪的效果更上一層樓！
A.巴西蠟乳液
「巴西蠟乳液」即「巴西棕櫚蠟乳液」，是以巴西棕櫚蠟為主要原料，采用先進乳化技術生產的高技術含量產品。「巴西蠟乳液」沿襲了棕櫚蠟高光的特性，是一種粒徑較小的水性及溶劑型助劑，常用于制作各種上光劑，具有手感滑爽、光澤度好、抗磨等性能。巴西蠟乳液是支撐地坪拋光液效用的主要材料，在產品設計中起到提亮增亮的作用。
化學機械拋光
這兩個概念主要出半導體加工過程中，最初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是極其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術——化學機械拋光技術（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術綜合了化學和機械拋光的優勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，平整性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為平整的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數量級，是能夠實現全局平面化的有效方法。
（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。
硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。