NF3氣體在高能化學激光、電子工業(IC)以及太陽能光電產業等方面具有非常廣泛的應用。目前，黎明院擁有一條年產500噸的NF3生產線，其生產工藝、設備均處于國內領 先地位。
主要用途：
NF3的三個主要用途，一是用作高能化學激光的氟源，二是作為電子工業(IC)中的蝕刻劑、清洗劑，三是應用于太陽能光電產業。
NF3其它用途：生產全氟銨鹽，用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度，在采礦和火箭技術中用作氧化劑等。
物化性質：
NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩定和有毒的氣體。相對分子質量為71.002，沸點為-129.06℃。
NF3在室溫下較穩定，但在800~1200℃下發生猛烈分解；NF3是一種有潛力的氧化劑，特別是在約200℃時，其反應性與氧相當；NF3在與其它元素反應時主要用作氟化劑；NF3在常溫下不與水、稀酸和稀堿溶液反應，但在100℃下與堿性溶液接觸時會緩慢水解生成亞硝酸鹽及氟化物，在電火花作用下，NF3可與水猛烈反應；NF3與H2或氫化物可快速反應并放出大量的熱，該反應是NF3用于高能化學激光器的基礎；NF3可與有機物作用，但通常需升高溫度以引發反應，因而常常發生爆炸；在低于70℃時NF3氣體對普通金屬不腐蝕，因此可用鋼、不銹鋼、鎳、銅和鋁等材料制作相關設備。
數據：
NF3是一種有毒、不可燃的壓縮氣體；
無氣味，但其中所含的雜質使它聞起來有發霉的氣味；
暴露極限： OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.當進入濃度超過暴露極限的泄方區時需配備自給式呼吸器(SCBA)；
氧化劑，會引起或促進金屬和非金屬物質的燃燒，特別是溫度超過200℃時；燃燒產物有毒；
使用NF3的任何系統都不應有油、油脂和其它有機物；
存儲于鋼瓶中，壓力小于1500psig，盛裝NF3的氣瓶不允許在高于52℃的環境下使用、貯存和運輸。
包裝規格：
包裝：高壓無縫碳鋼鋼瓶
包裝規格：47L國標或DOT瓶、470L Y瓶等。
黎明院生產現狀：
黎明院現有一套年產500噸的三氟化氮生產線，以生產4N以上規格的產品為主，并可提供GB/T 21287-2007指標中其它規格產品。
2008年，黎明院NF3產品通過了臺灣某著 名企業嚴格的清洗蝕刻試驗，完全能夠滿足其生產需要，已進行了批量采購，目前反饋的使用報告表明黎明院NF3產品質量良好，并確定黎明化工研究院為NF3氣體合格供應商。
2009年黎明院NF3生產工藝、質量控制、分析方法及產品質量通過了日本某著 名氣體廠商的仔細考察與嚴格檢驗，氣體檢測結果表明，黎明院的NF3產品質量已達到國際先進水平，隨即與黎明院簽署長期合作協議，開始批量采購。
黎明化工研究設計院有限責任公司
