產品概述：
1200度立式管式氣氛爐的獨特設計能夠實現在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫，四面加熱，溫場更均勻，立式結構使得氣體排放更加順暢，爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性，可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點，特別適合薄膜生長、電極測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要！
適用范圍：
1200度立式管式氣氛爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。