產品概述：
1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。
適用范圍：
1200℃迷你型真空氣氛管式爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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1200℃迷你型真空氣氛管式爐
2019-10-09 14:16 1492次瀏覽
產品概述：
1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。
適用范圍：
1200℃迷你型真空氣氛管式爐主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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