產品概述：
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區高溫式爐三個數字溫度控制器可獨立控制溫度，并可設置30段升降溫程序，溫區1（加熱區中心）采用硅鉬棒加熱，另外兩個溫區用硅碳棒進行加熱，此款管式爐可以形成一個溫度梯度，調整三個溫區的溫度，在熱梯度下制備功能材料，同時也適用于CVD法制作薄膜外延生長。爐體采用雙層殼體結構，并帶有風冷系統，使得殼體的表面溫度小于60度，爐膛的保溫材料采用高純氧化鋁，環保節能，可以減少熱量的損失，內爐膛表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
適用范圍：
PT-T1600-S6012LB3 1600度三溫區真空氣氛管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等。
