電子級四氟化碳是目前半導體行業主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。在低溫制冷、電子器件表面清洗和氣相絕緣等方面被廣泛應用。我院具備年產200噸CF4的生產能力，生產工藝及設備均處于國內領 先地位，且以生產5N規格的產品為主。穩定銷往韓國、臺灣等地區。
產品特性：
四氟化碳是目前半導體行業主要的等離子體蝕刻氣體之一，主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻。
黎明院是國內研究開發六氟化硫生產工藝的單位，致力于含氟電子特氣的研究，取得數十項技術研究及革新成果，曾獲全國科學大會獎，并主編工業級、電子級六氟化硫國家標準。
黎明院在制氟及氟化物生產行業的綜合技術實力達到了國內領 先水平，產品質量達到國際先進水平。在電解制氟、合成、提純、“三廢”處理等工藝技術領域具有四十多年的科研和生產經驗，擁有多項核心技術，累計申報國家專利17項。工業六氟化硫產品已經連續多年獲得“河南省名 牌產品”稱號。
近年來，黎明院電子級六氟化硫、三氟化氮、四氟化碳、六氟化鎢等含氟特種氣體的研發也取得了豐碩成果，其中自主研發的處于國際先進水平的新型電解技術可實現直接一步反應生產三氟化氮，其產品指標達到國際先進水平。超高純六氟化硫、四氟化碳的研發列入國家重大專項課題“02專項”， 重點開發滿足半導體集成電路領域使用的更高純度含氟電子氣體。
黎明化工研究設計院有限責任公司
